半導體真空退火爐

產品型號：Huace-1200G

廠商性質：生產廠家

所在地：北京市

更新日期：2026-04-08

產品簡介：

華測儀器Huace-1200G半導體真空退火爐

價格僅供參考，如需獲取更詳盡的產品技術規格書、定制方案或應用案例，歡迎致電我司技術工程師

Huace-1200G半導體真空退火爐由華測儀器生產，設備的反射鏡采用高準度曲率設計，通過五軸加工系統制造，以維持更高的反射效率，并在升降溫過程中仍能保持穩定均勻的溫度場，可實現寬范圍均熱區、高速加熱與高速降溫。樣品由石英管保護，無氣氛污染，更適合半導體工藝使用。

產品優勢

溫度高準度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以準確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外，降溫速度和保持在不同溫度下可提供高準度

不同環境下的加熱與降溫

加熱/降溫可用真空、氣氛環境、低溫(高純度性氣體 靜態或流動)操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳到加熱/ 降溫室

產品參數

產品尺寸：6寸晶圓或150x150mm產品

溫度范圍：RT ~ 800/1200/1450°C

升溫速度：＜100℃/s可編程（此溫度不含載盤的升溫速度）

                  ＜25℃/s（SiC載盤）

溫度均勻度：±5 °C ≤ 500 ℃

±1 % > 500 ℃

溫度控制重復性：±1 °C

溫控方式：PID 溫控