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        基礎信息Product information
        產品名稱:

        氣氛型可調高溫加熱裝置

        產品型號:

        廠商性質:生產廠家

        所在地:北京市

        更新日期:2024-10-25

        產品簡介:

        氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據用戶的需要進行定制。

        產品特性Product characteristics
        品牌華測

        產品介紹:

         中小型高溫爐是工業生產與科研中常用的設備之一。目前高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體,升溫速率慢、無法實現變溫環境模擬,且不同氣氛環境難以共用。

         氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據用戶的需進行定制。


        氣氛型可調高溫加熱裝置


        儀器規格:

        型號

        HCTD-1400

        HCTD-1200A

        HCTD-1200B

        加熱方式

        近紅外橢圓反射

        紅外拋物面反射聚光

        溫度范圍

        RT~1400℃

        RT~1200℃

        熱處理區

        Φ15mm×長100mm

        Φ50mm×長100mm

        Φ50mm×長150mm

        均熱去(加熱時)

        Φ10mm×長80mm

        Φ40mm×長80mm

        Φ40mm×長120mm

        冷卻方式

        從腔內石英噴嘴噴出氣體

        儀器特點:

        設定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

        多步驟及循環加熱利用氣體冷卻機構的高速氣體淬火

        可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設定和外部信號

        可以在電腦上顯示加熱中的溫度數據

        儀器應用:

        太陽能電池基板的熱處理

        在氣氛環境下的熱處理

        各種材料的基礎研究氣氛退火熱處理

        模擬器漸變熱處理

        熱循環熱沖擊試驗研究

        半導體材料的燒結和工藝退火爐


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